什么是光刻機？高端光刻機是集成電路配備中技能難度最高的關鍵設備，因此也被稱為人類技能開展的制高點和制作工業“皇冠上的明珠”。國外品牌主要以荷蘭ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌為主。我國是國際最大的芯片使用商場和進口商場，而光刻機是我國完成芯片工業自主化最大的短板，國家02科技重大專項旨在打破國外獨占，打造具有自主知識產權的高端光刻機設備，關于我國芯片工業開展具有重大意義。

本次入駐的光刻機浸液體系項目擬在青山湖科技城核心區新增用地25畝，總投資5億元。項目整體規劃，一次建成，建造光刻機浸液體系產品研制與中試基地。與前期入駐的中電海康磁旋存儲芯片項目毗連而建，在科技城構成關鍵設備制造、芯片研制出產兩大集成電路工業項目龍頭。

浸液體系背景：浸液體系是浸沒式光刻機四大核心部件之一，是光刻機打破干式曝光物理極限向更小技能節點開展的標志性技能。現在，國際上僅荷蘭ASML和日本Nikon擁有浸液體系技能，且嚴厲保密，因而，我國有必要自主研制。

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