構成現代計算機基礎元器件是一個十分微小的開關，它又稱為“晶體管”。然而，說起晶體管的制造，其中“光刻技術"起到了十分重要的作用。光刻技術的成熟度，直接決定了單位圓晶片上可以集成的晶體管數目。目前，最先進的光刻技術能夠在單顆芯片內集成幾十億個晶體管。

顧名思義，光刻技術就是通過光線刻出圖案。光刻技術相當復雜，在這里我為大家粗略地介紹一下基本原理：它利用光致抗蝕劑（或稱光刻膠）感光后因光化學反應而形成耐蝕性的特點，將掩模版上的圖案刻制到被加工表面上。

其大概過程如下：首先，讓紫外線通過印著芯片復雜電路圖案的掩膜版照射到硅基片上，引起曝光區域的光刻膠發生化學反應；然后再用顯影液溶解未感光的光刻膠，從而使得掩膜版上的圖案被復制到光刻膠薄膜上；最后，再利用刻蝕技術，將圖案轉移到硅基片上。通過反復多次以上的步驟，最終在材料上制造出晶體管。

可是這個方案有它的局限性，只有少數材料能夠通過這種方式形成圖案。這種方案一開始是為了硅而設計的。雖然半個世紀以來，硅材料一直在電子世界處于支配地位，但是目前也正面臨各種瓶頸和挑戰，科學家們現在正在尋找下一代的新材料。

然而，近些年來納米材料（微小的金屬或者半導體晶體）引起了科學界的廣泛興趣。它們具有獨特的特性，非常適合制造電子設備。盡管納米材料對于未來電子設備來說很有前途，然而將它們變成復雜結構的方法，目前來說還十分有限的，而且是小規模的。

最近，美國芝加哥大學和阿貢國家實驗室的科學家們創新探索出一種新方法。它無需使用光刻膠，能夠精準地將多種納米材料光刻成圖案。這些圖案的材料可以是金屬、半導體、氧化物或者磁性材料等等。

這項新技術稱為“DOLFIN”，它通過一種將不同的納米材料直接制作成“油墨”工藝，避開了放置光刻膠的需要。Talapin 和他的團隊仔細設計了單個粒子的化學涂層，這些涂層可以和光反應。

如果你通過圖案化的掩膜將光線照射到下方的納米粒子層上，就可以用它們連接成有用的電子器件。