鉻版掩膜版在IC生產中會大量使用，現社會因為LCD生產的檔次提高了，也加大了生產量，鉻板也逐漸由IC行業給推薦至LCD行業。鉻板的優點很多，比如：線條精細、邊緣銳利、刻蝕均勻、加工簡單、抗環境變化、硬度高抗劃傷、經久耐用等諸多優點。在LCD生產中使用廣泛。

鉻版掩膜版屬于光掩膜的一種，具有高精度和耐用性，但價格相對較高。?鉻版掩膜版是光掩膜的一種，根據其特性可以分為不同的類型。鉻版掩膜版的主要特點是高精度和耐用性，這使得它在需要高精度制造的領域中得到廣泛應用。然而，由于其制作工藝和材料的特殊性，鉻版掩膜版的價格通常較高。除了鉻版之外，光掩膜還包括其他幾種類型，如干版、液體凸版和菲林。這些不同類型的掩膜版各有特點，適用于不同的應用場景。

鉻版（Chrome）?：具有高精度和耐用性，適用于需要高精度制造的領域。

?干版?：精度適中，耐用性適中，價格適中，適用于一般精度要求的制造。

?液體凸版?：精度低，耐用性也不高，但價格低，適用于對精度要求不高的應用。

?菲林?：主要用于轉移PI液等，適用于特定的工藝流程。

鉻版掩膜版的基板通常采用高純度、低反射率、低熱膨脹系數的石英玻璃，而不透光層則是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。這種結構使得鉻版掩膜版能夠在芯片制造等高精度制造領域中發揮重要作用。此外，鉻材料本身具有高硬度、高熔點、化學性質相對穩定等特性，進一步保證了鉻版掩膜版的耐用性和可靠性?。

?鉻版掩膜的制作方法主要包括以下幾個步驟?：

準備基底?：首先，需要準備一個清洗干凈的透明基底。這個基底可以是玻璃或其他透明的材料，其作用是作為掩膜版的支撐。

涂覆光致抗蝕劑?：在基底上表面涂覆正性光致抗蝕劑。光致抗蝕劑是一種對光敏感的材料，它在后續的光刻過程中起到保護和轉移圖形的作用。

?曝光和顯影?：根據設計的版圖，使用曝光設備對光致抗蝕劑進行曝光和顯影。曝光過程中，光致抗蝕劑會發生化學反應，從而形成所需的光致抗蝕劑圖案。

?堅膜處理?：對曝光和顯影后的基底進行堅膜處理，以增強光致抗蝕劑的穩定性和耐腐蝕性。

?淀積掩膜金屬層?：在透明基底上淀積形成掩膜金屬層。這一步是為了在光刻過程中提供所需的金屬圖案。

剝離光致抗蝕劑?：最后，剝離未曝光的光致抗蝕劑，使得金屬層上的圖案得以保留，從而完成鉻版掩膜的制作。

這種方法省去了鉻版掩膜制作時鉻膜的濕法或干法刻蝕工藝，縮短了制備工藝流程，節約了生產和設備成本。同時，制備的掩膜版的線條邊緣更加整齊筆直，提高了器件的圖形質量，也拓寬了制版工藝窗口?。

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