如何選擇正確的旋涂機（勻膠機）用于SU-8微流控模具的光刻技術？

旋涂機（勻膠機）用于微流控模具的光刻，以 在基底上涂覆光致抗蝕劑層（例如SU-8）。它們適用于各種光刻膠，因此對于SU-8光刻應用來說，驗證一些參數(shù)非常重要，以確保您的設備能夠根據(jù)您的需求進行微調(diào)。本指南的目的是為想要購買用于SU-8模具制造的旋涂機的研究人員提供相關要點。

光刻膠涂層簡介

基材上的光致抗蝕劑涂層可以以多種方式制造，最常用的是旋涂涂層，將液體光致抗蝕劑涂覆在旋轉(zhuǎn)的基材上。但是它也存在噴涂層，其包括從噴嘴向襯底上投射液體光刻膠。最后，還有與樹脂干膜一起工作的層壓技術。

旋涂光刻膠

將光致抗蝕劑放置在基底的中央; 光刻膠的速度，加速度和粘度將決定該層的厚度。與以前的方法相反，這種方法使用了比所需更多的光致抗蝕劑，因為95％的光致抗蝕劑在旋轉(zhuǎn)過程中會損失掉。但是，它是實驗室中使用最多的方法，因為光刻膠的旋涂很容易使用且真正可重復使用。

噴涂光刻膠

對于噴涂而言，光刻膠必須是真正的液體，通常需要用溶劑稀釋。該混合物使得該過程在涂覆的光致抗蝕劑層的厚度上非常難以重復。這種涂層通常需要很大的設備，并且噴嘴在襯底上的一定數(shù)量的通過使得可以具有均勻的層。這種技術的最大優(yōu)點是能夠在高的地形上沉積均勻的光致抗蝕劑層。由于光致抗蝕劑的高粘度，光致抗蝕劑層厚度的選擇受限于薄值以確保具有與厚值相同的均勻?qū)印?/span>

樹脂層壓

通過層壓，可以將固體樹脂涂覆成具有給定厚度的干膜。主要優(yōu)點是有可能創(chuàng)建懸浮結構。該膠片可以直接用不同的供應商購買，也可以通過在塑料基材上旋涂完成。

如何選擇用于SU-8光刻的勻膠機？

旋涂機的最高速度和加速度

為了控制厚度，必須精確調(diào)整旋轉(zhuǎn)速度和加速度。這兩個參數(shù)可能是選擇旋涂機最重要的參數(shù)。基材的旋轉(zhuǎn)速度幾乎可以自行消除樹脂涂層的厚度。根據(jù)樹脂提供商，可以預測厚度。請注意，厚度的變化與速度不成線性關系。市場上的大多數(shù)旋涂機都會達到SU-8微流控模具光刻所需的速度（SU-8旋涂速度通常低于6000 rpm）。請注意加速設置功能，因為某些型號無法為光刻膠旋涂的不同步驟設置不同的加速度。

旋轉(zhuǎn)涂布機的晶圓固定系統(tǒng)

基材可以用不同的方法固定在旋涂機上。一個機械卡盤可以使晶圓真正居中在旋轉(zhuǎn)的頭上。然而，用于保持晶片的引腳會干擾旋轉(zhuǎn)期間的樹脂噴射，并因此在晶片的邊緣上產(chǎn)生更多的缺陷。使用真空吸盤可以解決這個問題，并且能夠形成一個非常水平的表面（在密封狀態(tài)良好的情況下）。因此它需要在旋涂機上增加一個真空泵。更重要的是，必須檢查真空管道內(nèi)沒有液體（樹脂或溶劑）進入并打破旋涂機。