低溫大氣射頻輝光寬幅等離子系統——材料表面清洗、活化、刻蝕、納米涂層。

一、低溫大氣輝光等離子的作用：消除靜電、去除污染物（清洗）、表面活化、表面改性。

二、應用領域

1、TPS智能手機平板電腦制程應用

AF、AR噴涂前活化處理；手機外殼噴漆前清洗活化處理；TAB綁定前清洗；OCADAT層壓前清洗處理；LOCA貼合前處理。

2、PCB封裝錢的清洗活化

3、OLED柔性顯示器制程應用

玻璃基板清洗；ITO清洗；有機污染物的去除；芯片綁定前清洗；封裝前清洗；PI薄膜清洗活化。

4、LED制程應用

封裝前框架清洗處理；芯片綁定前清洗處理；金線綁定前處理。

5、LCD制程應用

ACF綁定前清洗活化；PR灰化清洗；光刻工藝前清洗；PI印刷前清洗；COG綁定前清洗；RGB印刷前活化處理；

6、光學鏡頭模組制程應用

光學玻璃清洗；各種功能膜涂鍍、沉積、噴涂前的表面清洗活化。

三、大氣射頻等離子的用途：

對各種材料（塑料、橡膠、陶瓷、玻璃、金屬等有機和無機材料）表面進行微觀清洗、表面活化、改性、消除靜電等。

四、大氣輝光等離子的技術優勢：

1、在大氣壓狀態下產生寬幅、均勻的等離子體輝光，可連續處理寬幅面的產品。

2、射頻均勻輝光等離子體，溫度低，等離子體為純中性，沒有電位差，對于帶有微電路及電子元件的產品沒有任何損害。

3、采用常壓下產生均勻輝光等離子體的方式，結構簡單，可以進行大寬幅工件的均勻處理。

4、能耗低，工藝氣體用量非常少，設備運行成本低。

5、沒有毒害及刺激性廢棄產生，不需要通風系統。

6、等離子系統與工作臺一體化，方便融入產線。

7、采用德國PTL公司電源技術，技術成熟穩定。

五、PTL-CSK500主要技術參數