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一、使用方法：

1、在90mm或者120mm培養皿中鋪一層錫紙，鋪平整；

2、用鏟形鑷子小心取出硅片模具，放入玻璃揮發缸中，滴入甲基氯硅烷（Chlorotrimethylsilane）2~3滴，蓋上揮發缸，揮發修飾3min；

3、取出硅片模具，放入培養皿中，倒入處理好的PDMS，約1mm厚，80-150℃烘烤，之后，小心剝離PDMS。一方面起到清洗硅片模具，除去表面雜質的作用，另一方面可以作為模具保護膜。

4、重復以上三步制作PDMS芯片。

二、注意事項：

1、切勿用有機溶劑清洗硅片，可以用超純水清洗、氮氣吹干，但不建議這么做，因為力度不好控制，易于損壞模具。

2、揮發修飾過程切勿將修飾液滴加在模具上，會損壞模具。

3、整個操作過程小心謹慎，特別是剝離和切割過程，把握好力度，避免損壞硅片。

三、使用技巧：

1、每次使用前用硅烷試劑揮發修飾，可以延長模具使用壽命。

2、每次用完之后，用首次制作的PDMS薄膜保護模具，放入培養皿中，用膠帶密封培養皿，可以減少雜質落到模具上。

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