大家都知道掩膜版主要由基板、遮光層和保護膜組成，其中基板（主要采用玻璃基材，包括石英和蘇打兩種材質）占直接原材料成本比重達90%。

那么什么是掩膜版保護膜大家知道嗎？

掩膜版保護膜，mask pellicle，是一種透明的薄膜，在生產中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義，主要對掩膜版起物理與化學保護作用。

物理保護：保護掩膜版表面的圖案免受在搬運或使用過程中的物理損傷。防止灰塵和其他污染物落在掩膜版表面。

化學保護：防止化學試劑或腐蝕性氣體與掩膜版表面發生化學反應。

掩膜保護膜通常分為2類：硬掩膜保護膜和軟掩膜保護膜。硬掩膜保護膜通常由耐腐蝕和硬度較高的材料構成，如Si3N4，SiO2，多晶硅等。軟掩膜保護膜則是由聚合物材料構成，硝化纖維樹脂長期以來在G-線和I-線掩模版的保護中占據重要地位。當光刻技術進階至DUV波段，硝化纖維樹脂由于在這一波段的較高吸收系數，而影響到掩模版的光學性能，因此含氟樹脂，如聚四氟乙烯和其他含F的聚合物，由于在DUV波段上的優異透明度，成為了DUV掩模版保護膜的熱門候選材料。

硝化纖維樹脂硝化纖維樹脂是一種由纖維素通過硝化反應得到的樹脂。通常為白色的固體，可溶于醇、醚、酮類等有機溶劑中。在掩膜版的保護膜制作中，硝化纖維樹脂通常會被溶解在一個特定的溶劑中，然后再旋涂到玻璃上，形成一層均勻、透明的薄膜。最后揭下薄膜，切割為合適尺寸的保護膜即可。

掩膜保護膜落上灰塵影響曝光質量嗎？不會。光刻掩膜版上雖然有灰塵，但在投影光刻中，由于聚焦深度相對較小，那些遠離曝光平面的灰塵通常不會在曝光圖案上產生清晰的影像。也就是說，掩膜保護膜上的顆粒由于離圖案生成的晶圓太遠，其影響通常是可以忽略不計的。

掩膜版加工工藝包括圖形轉換、圖形光刻、顯影、蝕刻、脫膜、清洗、尺寸測量、缺陷檢查、缺陷修補、清洗、貼膜、檢查、出貨等步驟。對應的設備包括光刻機、顯影機、蝕刻機、清洗機、測量儀、LCVD修補設備、CD測量機、壁障修補機、面板修補設備、TFT檢查設備、貼膜機等。

其中，光刻為加工的核心工藝。平板顯示、半導體、觸控等行業基本都采用掩膜版作為基準圖案進行曝光復制量產，無掩膜光刻技術精度低，主要用于電路板行業。

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