光刻膠的組成

       光固化材料、光刻膠雖然都是由光引發劑（或光敏劑）、樹脂、單體（或活性稀釋劑）三種主要化學品原料和其他助劑組成的，但光刻膠需要使用專用的化學品原料。光刻膠是成像材料，和光固化材料相比，用途不同，使用的曝光光源和光能不同，反應機理不完全相同，對于材料的溶解性、耐蝕刻性、感光性能、耐熱性等要求不同，各類光刻膠使用的光引發劑、樹脂、單體等原料需要化學結構不同、性能各異的專用化學品。而且光刻膠用于加工制作非常精細的圖形線路，對原材料的純度、雜質、金屬離子含量等有非常高的要求。光刻膠種類非常多，根據其化學反應機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。基于光刻膠的化學結構，可以分為三種類型：光聚合型、光分解型、光交聯型。光刻膠經過幾十年不斷的發展和進步，應用領域不斷擴大，衍生出非常多的種類，不同用途的光刻膠曝光光源、反應機理、制造工藝、成膜特性、加工圖形線路的精度等要求性能不同，對于原材料的性能要求也不一樣。因此每一類光刻膠使用的原料在化學結構、性能上都比較特殊，要求不同品質等級的專用化學品。

光刻膠的成分

      溶劑：使光刻膠具有流動性，易揮發，對于光刻膠的化學性質幾乎沒有影響。

      樹脂：惰性的聚合物，用于把光刻膠中的不同材料聚在一起的粘合劑，給予光刻膠其機械和化學性質。

      光引發劑：光刻膠材料中的光敏成分，對光能發生光化學反應。

      添加劑：控制光刻膠材料特殊方面的化學物質，用來控制和改變光刻膠材料的特定化學性質光響應特性。

光刻膠應用分類

產品應用介紹

產品應用介紹——印刷線路板干膜工藝

產品應用介紹——LCD彩色濾光片工藝（一）

經過300道以上的制程產生

    TFT-LCD必須在精密的無塵室內，經過300道以上的制程生產出來。無塵室內的潔凈度，最高等級可達[10]，即是在無塵室環境內，每立方尺只有10顆粉塵。

產品應用介紹——LCD彩色濾光片工藝（二）

產品應用介紹——集成電路光刻工藝